Новосибирская компания разработала ультрафиолетовый лазер для литографии микросхем

Компания «Оптические технологии» из Новосибирска представила новый лазер, предназначенный для литографии в производстве микросхем. Устройство использует ультрафиолетовое излучение и, по словам разработчиков, не имеет российских аналогов. Лазер рассчитан на замену американских систем Coherent, работающих на длине волны 257 нанометров — под этот стандарт уже адаптированы фоторезисты и другое оборудование.

Технология литографии и особенности разработки

Как объяснили в компании, при изготовлении микросхем используется фотошаблон — тонкая плёнка с рисунком, который проецируется на кремниевую пластину. Более 75% таких шаблонов создаются методом лазерной литографии, где изображение формируется с помощью сфокусированного лазерного луча.

Новая система включает лазер с мощностью 10–30 милливатт и волоконный усилитель, повышающий выходную мощность до 15 ватт. Внутри конструкции расположен кристалл, изменяющий частоту лазерного излучения, что позволяет получить дополнительный световой поток на нужной длине волны.

Предсерийный образец и испытания

Создан предсерийный прототип, который вскоре будет испытан на белорусском предприятии «Планар», где уже используется продукция новосибирской компании. По словам разработчиков, одной из ключевых особенностей нового лазера является его низкое энергопотребление — всего 1 ватт. Это делает устройство значительно более энергоэффективным и экономичным по сравнению с существующими аналогами.