Маск всерьёз: ASML подтвердила, что миллиардер не шутит — он действительно хочет построить ещё один завод размером с небольшую страну

Генеральный директор ASML Кристоф Фуке сообщил, что лично обсуждал с Илоном Маском проект TeraFab и убедился в твёрдом намерении бизнесмена построить одно из крупнейших в истории предприятий по выпуску микросхем.

По оценке главы ASML, стремительный рост спроса на искусственный интеллект в обозримой перспективе может привести к нехватке производственных мощностей в мировой полупроводниковой отрасли. Завод TeraFab, о запуске которого Маск объявил в марте, при первоначальных инвестициях в $20 млрд намерен объединить под одной крышей выпуск логических чипов, памяти и сборку. В проекте уже участвует Intel, готовая предоставить свою технологию 14A; параллельно SpaceX подала заявку на возведение предприятия в техасском округе Граймс с бюджетом $55 млрд, который при расширении может вырасти до $119 млрд. Детали переговоров с Маском Кристоф Фуке оставил за кадром, однако дал понять, что инициативы TeraFab и Starlink в ближайшие годы способны заметно повлиять на загрузку производителей оборудования.

ASML остаётся единственным в мире поставщиком EUV-литографических систем, без которых выпуск передовых чипов невозможен. Появление нового крупного игрока на рынке полупроводников означает для компании заказы на оборудование на миллиарды долларов. По данным главы ASML, уже в ближайшие месяцы ожидается выпуск первых логических чипов, изготовленных на системах EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры. Первым клиентом, установившим и принявшим в эксплуатацию подобную систему — Twinscan EXE:5200B — стала Intel: оборудование было запущено в конце прошлого года на заводе D1X в Орегоне. Оптика с числовой апертурой 0,55 позволяет за одну экспозицию повысить плотность транзисторов примерно в 2,9 раза по сравнению с нынешними EUV-системами.

Параллельно ASML работает над вторым усовершенствованным инструментом для упаковки. Для самой компании это пока второстепенное направление, однако оно может открыть перед ней новые перспективы. Кристоф Фуке также раскритиковал обсуждаемый в США законопроект, призванный запретить поставки и обслуживание DUV-литографического оборудования китайским заказчикам. Он напомнил, что подобные системы появились ещё в 2015 году и отстают от современных решений на восемь поколений. Дополнительные ограничения, по его убеждению, лишь подстегнут Китай к ускоренной разработке собственного оборудования. В качестве иллюстрации глава ASML провёл аналогию: если человека оставить в пустыне без еды, у него попросту не останется иного выбора, кроме как срочно разбивать собственный огород — речь, по сути, идёт о выживании.